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HMDS真空烤箱的技术指标及优点

 发布时间:2019-04-19 点击:载入中...

HMDS真空烤箱的技术指标及优点

    在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺尤为重要。 

    起初,人们用液态的HMDS直接涂到晶片上,然后借着晶片的高速旋转在晶片表面形成一层HMDS膜。这样就阶段性的解决了基片和光刻胶之间的结合问题,但随着光刻线条的越来越细,胶的越来越薄,对粘附力提出了更高的要求,于是HMDS真空烤箱被研制出现

真萍科技HMDS涂胶机



    技术指标:

  1.机外壳采用冷扎钢板喷塑处理,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。

  2.箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。

  3.微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温准确,可靠。

  4.智能化触摸屏控制系统配套PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。

  5.HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100级光刻间净化环境。

  6.HMDS管路加热功能,使HMDS液体进入箱体的前端管路加热,使转为HMDS气态时更易。

  7.低液报警装置,采用红外液体感测器,能及时灵敏给出指令(当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能)

  8.温度与PLC联动保护功能(当PLC没有启动程序时,加温功能启动不了,相反加温功能启动时,PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能,发出警报)

  9.整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料,整体使用无缝焊接(避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害)

真萍科技HMDS涂胶机



     真萍科技HMDS真空烤箱的优点:
 
     1.预处理性能好,由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理,所以不会有尘埃的干扰,再者,由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤,再接着进行HMDS处理,不需要从容器里传出,而接触到大气,晶片吸收水分子的机会降低,所以有着较好的处理效果。
     2.处理更加均匀。由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟的均匀性。 
     3.效率高。液态涂布是单片操作,而本系统一次可以处理多达4盒的晶片。
     4.更加节省药液。实践证明,用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多;   
     5.更加环保和安全,HMDS是有毒化学药品,人吸入后会出现反胃、呕吐、刺激胸部、呼吸道等,由于整个过程是在密闭的环境下完成的,所以不会有人接触到药液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机,所以也不会对环境造成污染。
    
*文章仅为个人观点,不作为技术参考。具体细节请咨询技术人员。
真萍科技作为专业的HMDS涂布烘烤设备制造厂商,可根据客户特殊需求定制您需要的满意产品,有需求的客户详情请咨询400-608-2908或搜索真萍科技了解更多,我们将竭诚为您服务。

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