欢迎光临合肥真萍电子科技有限公司!
合肥真萍电子科技有限公司

具有设计、制造、销售及售后服务能力的综合性企业

全国服务热线 400-608-2908 

联系我们

合肥真萍电子科技有限公司

全国服务热线:400-608-2908

传真:0551-63484895

地址:合肥市国 家级经济技术开发区厚德路175号

当前位置:首页 > 新闻中心 > 行业新闻

行业新闻

光刻胶

信息采集:http://www.tphte.com/ 发布时间:2020-12-18 点击:载入中...

光刻胶市场规模从10年至今一直在扩大,据统计,10年至今,这一数值的年均复合增长率在5.4%左右。那个,市场前景如此广阔的光刻胶究竟是什么呢?我们一起来了解一下。

半导体光刻胶是利用光化学反应,经光刻工艺将所需要的微细图形从掩膜版转移到代加工基片上的图形转移媒介,其作用原理是利用紫外光,准分子激光,电子束,离子束,X射线等光源的照射或辐射光刻胶,使其溶解度发生变化,最终得以在晶圆上刻蚀出需要的图形。在集成电路和半导体器件的微细加工方面,光刻胶可谓功勋卓著。同时,在平板显示,LEDPCB印双线路板等过程中,光刻胶也占据着一席之地。

主要成分和溶剂共同组成了光刻胶。主要成分包括树脂,单体,光引发剂和添加助剂,树脂和单体在其中占据了极大比重,一般树脂会占据主要成分的50%-60%,单体则是35%-45%不等。溶剂是光刻胶中含量最大的成分,可以让光刻胶的各组成部分溶解到一起,是后续光刻化学反应的重要介质。以上就是关于光刻胶的运行机制和组成要素的全部.

 

 

*文章仅为个人观点,不作为技术参考。具体操作请在技术人员指导下进行。

 

 

 

*文章内容及图片均来自 今日半导体  ,存在侵权请告知删除!

 

 

 

真萍科技作为专业的设备制造厂商,可根据客户需求定制您需要的满意产品,有需求的客户详情请咨询400-608-2908或搜索真萍科技了解更多信息。

                                                         

yXEMGCEoXOt+It4btmdOJG3jnhivuOzyV9Q6Y3BNdjoEpOcvVf2H1Q65HL2EhpA1IRLLeaqZqDQhH2N6wucOmU1w63k7v4+E82C5rvJ34fBXzQOWP37daQ==